国产光刻机技术突破！

在近期上海举行的SEMICON China 2025展会上，一家成立不到四年的公司——新凯来（SiCarrier Technologies）——引发了巨大的关注。它一口气展出了30余款半导体设备，其中包括光刻机等一系列高精尖产品，令业界震惊不已。这家公司究竟是如何在短短四年内取得如此令人瞩目的成就？让我们一起深入了解。

28纳米光刻机的诞生

据多家外媒报道，新凯来已经成功研发出适用于300毫米晶圆的28纳米浸润式光刻系统。其光源波长、套刻精度等核心技术参数已达到国际同类产品水平。这对于中国半导体产业来说，无疑是一个里程碑式的突破。要知道，光刻机是芯片制造的核心设备，长期以来被少数几家国际巨头垄断。新凯来的出现，打破了这一垄断局面，为中国芯片产业的自主可控发展注入了强劲动力。新凯来展示的28纳米光刻机，代表着中国在高端半导体设备制造领域取得了重大进展。

新凯来展出的其他先进设备

除了28纳米光刻机，新凯来还在SEMICON China 2025上展出了其他众多先进的半导体设备，涵盖了薄膜沉积、刻蚀、检测等多个领域。例如，其高精度薄膜沉积设备采用独特的反应腔设计，能够实现纳米级薄膜均匀性控制，技术参数已接近国际领先水平。新一代涂胶显影设备则突破国外技术垄断，在分辨率和产能方面达到业界先进标准，可满足14纳米及以上制程工艺需求。此外，一些设备甚至能够支持5纳米芯片的生产，展现了新凯来在半导体设备领域的强大实力。新凯来在短短四年内取得如此成就，令人惊叹。

新凯来的实力与背景

新凯来成立于2021年8月，注册资本15亿元，由深圳市国资委全资控股。公司核心团队具备20年以上电子设备技术开发经验，并联合了众多国内半导体制造设备和零部件合作伙伴。据报道，新凯来在深圳政府的支持下，一直在开发芯片制造设备，并将ASML、Applied Materials和Lam Research等公司的机器作为基准。更有消息称，其70%的核心研发团队来自华为海思和2012实验室，技术路线延续了华为被制裁后启动的“备胎计划”。这些信息或许能解释新凯来如何在短时间内取得如此巨大的成就。新凯来28纳米光刻机的成功，离不开国家政策的支持和强大的技术团队。